高純氫制法和用途

時(shí)間：

高純氫 - 制法
開放數(shù)據(jù) 可信數(shù)據(jù)
以電解氫為原料，經(jīng)催化脫氧、干燥、低溫吸附等凈化工藝而得。其制各方法還有低溫液化法、金屬氫化物氫凈化法、鈀膜擴(kuò)散法、中空纖維膜擴(kuò)散法和變壓吸附法等。

高純氫 - 用途
開放數(shù)據(jù) 可信數(shù)據(jù)
高純氫主要用于大規(guī)模集成電路的制造，提供還原氣氛，作為配制SiH4/H2、PH3/H2、B2 H6/H2等混合氣的底氣。在電真空材料和器件生產(chǎn)過程中，對(duì)氫氣純度要求也很高。電子管的陽極、陰極和柵極等金屬器件，都需經(jīng)過專門的燒氫處理。另外，在硅和砷化鎵的外延工藝中用作保護(hù)氣和運(yùn)載氣。

高純氫 - 安全性
開放數(shù)據(jù) 可信數(shù)據(jù)
******。在很高的濃度時(shí)，可出現(xiàn)麻醉作用。接觸液體可引起******。易燃?jí)嚎s氣體。貯存于陰涼、通風(fēng)倉庫內(nèi)。倉溫不宜超過30℃。遠(yuǎn)離火種、熱源。防止陽光直射。應(yīng)與氧氣、壓縮空氣、鹵素（氟、氯、溴），氧化劑等分開存放。切忌混貯混運(yùn)。防止撞擊和曝曬。